CEF3生產中的單一工藝模式

Question

在生產中使用單一工藝模式是否存在真正的缺陷？官方聲明似乎阻止了這一點，但迄今爲止應用程序一直保持穩定。 CEF1似乎已經被放棄了，如果CEF3單進程被用於開發，那麼後者應該至少成爲測試套件的一部分，因此是穩定的。或者那是不正確的？

另外，CEF3單一過程是否與CEF1不相等？新的Battle.net發射器正在使用CEFl（1453）。我想知道這是出於遺產原因還是這是一個有意識的決定避免使用CEF3。

Answer 1

此問題經常在cef's forum上重複。簡短的回答是「不要走這條路」。

有時，在單一過程模式下彈出的某些錯誤以及來自cef維護者的官方消息是該模式不受支持。不過，我認爲這在文檔上太過輕描淡寫了。來自cef1背景的人往往會一直這麼做，所以單一過程模式似乎是一種很好的方式，但是更新的（現在年代久遠的）cef3高度依賴於鉻的內部，而這些都是完全基於在多個生產過程中。