純SSAA每個樣本多重採樣

Question

什麼用GL_ARB_sample_shading與每個樣本的陰影通過

gl4.glMinSampleShading(1.0f); 

一個純粹的超級採樣抗鋸齒（SSAA）和多級採樣之間的差值Vs？

我更喜歡後者，因爲與SSAA相比，它不需要更大的紋理，它提供了很大的靈活性..即：甚至可以在運行期間在SS和純多重採樣之間切換它..

任何缺點我不知道？

Answer 1

什麼是與每個樣本的陰影

我承擔的「純超級採樣抗鋸齒（SSAA）」，你的意思是一個純粹的超級採樣抗鋸齒（SSAA）和多級採樣模式之間的區別你會自己實現它。我這樣說是因爲使用每個採樣着色器的多重採樣是超級採樣。

所以問題是使用專用硬件和自己做這件事之間有什麼區別。不同之處在於：

1. 實施通常會有圍繞多重採樣解析操作構建的專用硬件。因此，多重採樣解決方案的好處會比編寫着色器來做更快。或者至少，它不會變慢。

2. 實現通常會有專門的硬件來處理多采樣中的採樣位置。有時它會改變每幀的採樣位置，這在合理的幀率下可以幫助更多地減少混疊僞像。管他呢。你無法親自獲得這種效果。事實上，你甚至無法自己使用旋轉的樣本網格。

我喜歡更後者，因爲相比於SSAA，它並不需要更大的紋理，它提供了很大的靈活性。

如果您認爲4倍多重採樣紋理不是（至少）比相同大小的非多重採樣紋理大4倍，那麼您就是在自欺欺人。