我如何理解OpenGL ES規範中的樣本掩碼？

Question

我正在閱讀有關samplemask的gles spec。

有一個關於samplemask我無法理解的段落。以下是該規範的片段。

當狀態指定對於給定的片段的多個片段着色器 調用，對於任何單個片段 着色器調用樣本掩碼可以指定用於該片段覆蓋採樣的子集。在 這種情況下，與每個覆蓋樣本對應的位將被精確設置爲一個 片段着色器調用。

有人可以幫給我一個例子，或者幫助我明白了嗎？我與部分

感謝「碎片的覆蓋樣本的一個子集」相當混亂。

Answer 1

樣品掩模（也被稱爲覆蓋掩碼）定義了在像素樣本內的原語被光柵化，並且其已存活任何早ZS測試。如果每個像素只有一個樣本（不論是否渲染碎片），這並沒有多大意義，但是如果您使用多重採樣，則每個像素會有多個樣本點。在三角形的邊緣，光柵化可能僅擊中4個樣本中的3個，並具有覆蓋掩碼b0111，其指示將哪些樣本寫入幀緩衝區。

對於多樣本反鋸齒，您只執行一個片段着色器每個像素的調用，而不考慮覆蓋掩碼，以便片段將具有（在我們的示例中）覆蓋掩碼b0111。

如果您使用的採樣率在陰影的OpenGL ES 3.x中，你將執行3個片段着色器調用，每個樣品的打擊，所以也要覆蓋掩碼b0001，b0010和b0100，每寫一個子具有唯一片段顏色的像素中的像素樣本。